中国のAI、米国との格差縮小の可能性

北京のAI会合で姚順雨氏は、最先端半導体製造装置の不足がある一方、リスクを取り技術革新を進めれば米国との格差を縮められる可能性が高いと述べました。露光装置やソフトの生態系が主要な課題と指摘されています。

北京で開かれた人工知能（AI）関連の会合では、中国側の著名な研究者らが現状と課題を改めて示しました。元オープンAIの研究者で現在は騰訊（テンセント）のチーフAIサイエンティストを務める姚順雨氏は、最先端の半導体製造装置が不足している点を挙げつつ、リスクを取りイノベーションを進めれば米国との技術格差は縮まる可能性が高いと述べています。会合では、米国がインフラ投資を通じてコンピューティング能力で優位を保っているとの見方も示されました。報道では、中国側が極端紫外線（EUV）露光装置の試作に成功したと伝えられています。 報じられた主な点： ・姚順雨氏は中国企業が今後3〜5年で世界有数のAI企業になる可能性が高いと述べた。 ・高度な半導体製造装置、特に露光装置の不足が主要な技術的ハードルと指摘された。 ・現時点で電力など一部インフラに優位性があるとされた。 ・ロイターは先月、極端紫外線露光装置の試作機が完成したと報じた。 ・アリババの林俊陽氏は米国の計算インフラが1桁から2桁規模で大きいと述べ、限られた資源が共同設計での革新を促したとも語った。 ・智譜AIの創業者・唐ジエ氏は若い起業家が高リスクのベンチャーを受け入れている点を前向きに評価し、政府の支援の余地に触れた。 まとめ： 会合では、装置やソフトの生態系、計算インフラの規模差が技術競争の主要な論点になっています。これらは企業の研究開発やサービス提供の状況に影響し得ますが、具体的な公的な日程や追加発表は現時点では未定です。