中国AI、米国との格差縮小を指摘

北京のAI会合で姚順雨氏は、最先端半導体製造装置の不足が課題だが、リスクを取り技術革新を進めれば米国との技術格差は縮められると述べました。会合では米国の大規模なコンピューティング基盤の優位も指摘されています。

北京で開かれた人工知能関連の会合で、中国の著名研究者らが現状と課題について意見を述べました。姚順雨氏（元オープンAIのシニアリサーチャーで騰訊のチーフAIサイエンティスト）は、中国は電力などの面で優位がある一方、極めて高度な半導体製造装置が不足していると指摘しました。彼は、リスクを取りイノベーションを進めることで米国との技術格差を縮められると述べています。会合では米国がインフラ投資でコンピューティング能力の優位を保っているとの指摘も出ていました。 報じられている点： ・北京のAI会合で姚順雨氏が発言した。 ・姚氏は高度な半導体製造装置の不足を主な技術的ハードルと指摘した。 ・ロイターは先月、中国が極端紫外線露光装置の試作機を完成させたと報じている。 ・阿里巴巴の林俊陽氏は米国のコンピュータ基盤が規模で大きいと述べ、資金面で制約があると指摘した。 ・智譜AIの創業者は若い起業家らの高リスク事業の受容を前向きとし、政府の支援が役立つと述べた。 まとめ： 技術面では半導体製造装置などの生産能力とソフトウェアのエコシステムが課題として挙がっています。コンピューティング基盤の規模差は現状の競争力に影響しており、今後の方針や公的な計画の詳細は現時点では未定です。